離子束刻蝕系統 
 

離子束刻蝕系統：
離子束刻蝕系統是為無塵室操作而設計的，Nanoquest II使得蝕刻模塊始終呆在無塵室的服務區內。系統元件，如防護物和其他耐用部件，很容易在服務區存取。雙門蝕刻模塊可以使維修從試驗箱的任何一側開始。UHV設計規則確保該蝕刻模塊和負載鎖定試驗箱有較低的基地壓力。高速真空泵不僅提供了快速泵，而且同時也減少了離子束氣體的碰撞。

Intlvac 的Nanoquest II離子束刻蝕系統新整合了一個水冷旋轉階段，一個22厘米RF 離子源，一個不銹鋼真空箱，低溫高真空泵系統，自動水泵和通風口，高真空計大氣，流量控制器，試驗箱櫥.

高性能:
帶有150毫米和100毫米晶圓壓盤的Nanoquest是專為較小型號晶圓板批處理加載碳涂層配置所設計。100毫米直徑范圍內的均勻性為± 3 ％，晶圓與晶圓的可重復性± 2 ％ 。 Nanoquest是您加工的理想平臺。
系統配置和布局:
真空箱是運用UHV可兼容裝配技術，全部使用不銹鋼材料建造而成，其外觀經過電拋光處理，整潔，美觀。連續的不銹鋼冷卻管道焊接在箱體外面，成網狀，提供高效率的散熱片。

離子束刻蝕系統：
◆ 單晶圓負載鎖定離子束刻蝕系統可用于最大150毫米的晶圓。
◆ 用戶可通過電感耦合等離子體屏柵離子源選擇光束電壓和電流密度。
◆ 在離子束的運行期間，基板階段使得水冷系統在積極運作的同時旋轉，傾斜。
◆ “低調的”無塵室界面把儀器箱和蝕刻模塊放在無塵室墻壁后面。