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負載離子束蝕刻&沉積系統
The INTLVAC Nanoquest I負載離子束蝕刻&沉積系統是最普遍的離子束研發平臺。可以獨立控制的離子能量,離子電流密度與入射角,離子束加工是最可控的薄膜刻蝕和沉積技術。能夠做從簡單的惰性蝕刻到一個復雜的多層沉積用于潔凈室操作,可以安裝一個潔凈室墻上。系統的組成部分,如水泵很容易操作。真空設計規則確保蝕刻模塊和負載試驗箱達到很低的基礎壓力的工藝。
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